第二十章 真空镀膜（上）（2/2）

“这个是晶振装置，探头处装有晶振片，用来实时检测蒸镀的薄膜厚度。它的位置一定不能乱动，因为现在的参数是已经标定过的，如果移动了它的位置，对膜厚的检测结果就不标准了。此外晶振片也是有寿命的，所以需要定期更换晶振片，并重新标定厚度。”

舱体最上面是一块大的圆形金属挡板，以及一个可以旋转的样品台。

陈婉清道：“蒸镀过程中，气态靶材分子会在舱体内运动。当金属挡板打开时，可以阻挡靶材分子到达样品表面，所以它叫做样品挡板。开始蒸镀时，需将其打开。样品台可以旋转，其下方有掩模版，用来得到特定的薄膜图案，而它上面的样品支架可以取下来装样品，装好后再安装回去。”

将舱内情况了解完毕后，许秋开始做蒸镀前的准备工作。

两批基片的器件结构不同，需要分两次进行蒸镀。

第一批是正常结构，也就是蒸镀钙和铝。

许秋首先在钨篓中装满99.995%纯度的铝锭，然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。

挡板的开关是数控的，需要在手套箱外的总控台操作。

打开挡板后，他取出束源炉内部的陶瓷坩埚，将上次使用后剩余的残渣倒出，再加入两勺新的99.995%纯度的钙粉末。

陶瓷坩埚是特质的，可以至少承受1000摄氏度以上的高温，且十分稳定，不会与靶材反应，产生杂质。

完成后，他让学姐关闭束源炉挡板。

最后，将一片片基片正面朝下放置在样品支架上，再将样品支架放回样品台。

“学姐，没有问题吧。”许秋看向陈婉清。

“嗯嗯。”陈婉清点点头。

许秋将舱门从右往左推回原位，然后旋转舱门上下的两个旋钮，直至无法转动。

他离开手套箱，跟随学姐来到总控台，剩下的操作主要在总控台完成。

总控台接近两米高，由多个模块拼接而成，一共有30多个控制按钮。

陈婉清道：“旁边有操作说明，严格按照说明来做就行。”

许秋拿起《真空镀膜仪使用说明》翻看，只有两页a4纸，并没有想象中的多。

他表面上在看说明书，实则在心中查看系统。

系统已经将学姐的技能复制了，可以看到每步操作的细节，所以文字版的说明书意义已然不大。

“我看完了。”许秋道。

“这么快？”陈婉清道：“行，那你来操作吧，有什么问题我会提醒你的。”

第一步是打开循环水系统和空气泵。

前者用来冷却分子泵，而后者用来推动样品挡板。

许秋找到位于总控台后面的循环水装置，按下绿色的启动键，便听到仪器发出嗡鸣声，仔细听的话还有水流声。

然后，他走到空气泵旁边。

空气泵上有一个橙红色的瓶盖大小的开关，需要拉起来，才能启动机器。

许秋试着向上拉，开关却纹丝不动，他也不敢太用力，便说道：

“学姐，打不开。”

“用力啊。”

“砰！”